Recubrimiento antirreflectante mas efectivo

Investigadores de instituto Rensselaer anunciaron el desarrollo de un nuevo recubrimiento antirreflectante. El proceso consiste en depositar una capa de nitruro de aluminio y sobre esta capa se depositan nanocilindros de silice, orientados a 45 grados. La tecnica usada para producirlo se llama deposicion en angulo oblicuo. El material posee un indice de refraccion de 1.05 similar al del aire. Este metodo minimiza la reflexion de la luz en un amplio rango de longitudes de onda y angulos de incidencia.

La utilidad de este nuevo material se espera que sea muy variada, desde el aumento en la eficiencia de celulas solares y LEDs, hasta dispositivos optoelectronicos para comunicaciones.

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